新品 | 日立分析仪器推出OE750 — 新一代高性能OES光谱仪，用于全面金属分析控制

   日期：2019-12-05

中国，2019年12月5日：日立分析仪器（Hitachi High-Tech Analytical Science）是日立高新技术公司（TSE：8036）旗下的一家全资子公司，主要从事分析和测量仪器的制造和销售，其已推出一款开创性的OE750型新型直读光谱仪，用于铸造厂和金属生产中，要求严格的🌠金属规格分析。

✅ 由于复杂的供应链，以及作为基础材料使用的废旧金属数量的增加，铸造厂和金属制造商在控制熔体中的杂质和痕量元素时，面临着更多的压力。新型OE750型直读光谱仪具有前所未有🥀的性能水平。它涵盖金属中所有元素的光谱，并实现对某些元素的比较低检出限。因此，此款分析仪具备价格高昂的同类仪器所能提供的功能水平，可为众多铸造厂和金属制造商提供分析。

OE750实现高极分辨🌳率和宽动态范围要归功于采用了先进CMOS探测器技术的革命性新光学理念。其中有四项专利正处于申请状态。因此，这种新型分析仪能覆盖非常宽的波长范围；这意味着该分析仪能测量金属中ppm级别的所有元素。这对于满足当今严格的金属规格分析至关重要，该分析仪可以满足新的ASTM E415标准中关于碳钢和低合金钢的试验方法的要求。

🔯 OE750是铝铸件的理想光谱仪，因为它可以测定亚共晶和过共晶铝硅合金中含量极低的磷。它可以分析锑、铋、锶和钠，以及杂质和痕量元素，从而确保这些元素能够被控制在铝熔体中，以优化结构改造。创新性光学设计能实现更短的启动时间，因为光学系统的体积相对较小。这有助于那些需要在多点测量验证熔体质量的工厂实现高批量生产。

除了新的光学设计之外，OE750还有其他支持大批量金属分析的技术特性。它有一个新的密封火花台，具有优化层流设计，可降低氩气消耗，降低污染的可能性，并很好的降低维护要求。带有低压氩🦂气吹扫的独特中压系统可减少泵的使用。这可将泵的功耗降低90%，并避免油气污染，从而增加可靠性和仪器的正常运行时间。这使得OE750具有高可靠性和低运行成本。

除创新性硬件技术外，新型OE750还包括可提高性能的软件。例如，它包括日立牌号数据库，该数据库包含来自69个国家的339ꦿ,000多种材料的1,200多万条记录和标准，减少了人工查阅牌号目录的时间和潜在错误。可选的💧炉料校正软件会自动计算添加至熔体中的正确材料量，使其符合规范。

日立OES产品业务开发经理Wilhelm Sanders表示：“在过去，铸造厂和金属加工企业在购买仪器时，不得不在高ꩲ极𒅌分析性能和可接受价格范围之间作出选择。现在有了新型OE750，他们无需想出折中方案了。OE750能凭借一套可使用的解决方案提供的金属分析。”

高性能金属分析，价格合理

新型OE750是一款突破性的新型OES金属分析仪。其涵盖了金属元素的全部光谱，并具有同🌱♌类产品中比较低的检出限。

由于行业法规日益严格，供应链变得复杂以及更多地使用废料作为基础材料，因此铸造厂和金属制造商必须将杂质和痕量元素控制在比😼较低ppm范围内。在过去，这一级别的OES对许多企业而言是遥不可及。日立分析仪器推出的新型OE750可改变这一现状。

 这款直读光谱仪可用于分析所有主要合金元素，并识别金属中含量极低的杂📖质、痕量元素和处理元素，如钢中的氮。 OE750的测量速度快、可靠性⛦高且运营成本低，可进行高性价比的日常分析和质量控制，其性能可与更大、更贵的光谱仪媲美。

*根据应用的不同，有关更多详细信息，请索取我们的应用报告。